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電子廠用超純水處理設備工藝配置介紹
來源:http://www.xamz.com.cn/發布時間:2019年09月16日
  電子廠用超純水處理設備介紹
  一、超純水系統工藝配置說明
  1、原水泵:供預處理系統正常工作的動力源,為保持后序設備的正常運行,增加壓力。泵相應設置高過熱保護器、壓力控制器,泛起故障自動報警。
  2、原水箱:設高、低水位控制。對系統的給水起調節作用,防止自來水給水不足的影響,同時也可對自來水中的雜質起一定的沉淀作用。
  3、全自動過濾器:采用石英砂濾料以除去原水中較大顆粒的懸浮物、泥沙、雜質及鐵離子等,降低水的混濁度。
  4、全自動活性炭過濾器:利用活性碳的吸附能力有效地吸附原水中的有機物、游離性余氯、膠體、微粒、微生物、某些金屬離子及脫色等,使出水余氯含量<0.1mg/L,所以被廣泛用于糊口用水及食物產業、化工、電力等產業用水的凈化、脫氯、除油和去臭等。
  5、全自動軟化水器:為防止反滲透滲出膜表面結垢,需降低原水中的硬度,所以在反滲透滲出系統前設軟化器,使原水硬度降低(一般總硬度低于50mg/L)。
 電子廠用超純水處理設備工藝配置介紹
  6、保安過濾器:采用5μmPP濾芯以除去原水中微細的懸浮物、泥沙、雜質等
  7、高壓泵:提供反滲透系統正常工作的動力源,為保持后序設備的正常運行,增加壓力。
  8、反滲透系統:采用高脫鹽率的優質膜元件,單位膜面積的透水速度快、脫鹽率高;機械強度好;化學不亂性好,能耐酸堿和微生物的侵襲;使用壽命長,機能衰減小。
  9、中間水箱:設高、低水位控制,貯存預處理水,對系統的給水起調節作用。
  10、EDI增壓泵:為EDI設備提供所需壓力。
  11、EDI設備:深度除鹽。
  12、超純水箱:儲存超純水。
  二、進水條件說明
  進水:一般為反滲透的產水
  進水電導率:<40μS/cm
  進水壓力:<4.0bar
  pH:6.0~8.2
  溫度:4~450C
  硬度(以CaCO3計):CaCO3<1.0ppm
  二氧化硅:<0.3ppm
  H2S:<0.01ppm
  TOC:<0.5ppm
  TDS:<5.0ppm
  氯總量:<0.05ppm
  氧化劑:Cl2<0.05ppm,O3<0.02ppm
  鐵、錳、硫化氫:<0.01ppm
  油/油脂:未檢出
  濁度:<1.0NTU
  色度:<5APHA
  三、先進型EDI設備控制說明
  通過PLC可編程控制器和人機界面控制和顯示超純水處理設備產水的流量、壓力、液位、電導率和電阻率等數據。
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